エキシマレーザー対応のフォトマスク用防塵カバーです。信越ペリクルは、シリコンウエーハやフォトマスク基板などの半導体関連分野で培ったクリーン技術、検査技術、さらにはシリコーンで培った接着・粘着・成形加工技術を最大限に駆使し、リソグラフィ工程の歩留まり向上に貢献しています。

■特徴

• 最高水準のクリーン化技術により、異物を最小限に抑制。
• 優れた耐久性と高透過性を確保したペリクル膜。
• 信越化学独自開発のペリクル膜用接着剤、
  フォトマスク固定用粘着剤を使用。
• オートマウンター対応容器を使用。

 

■お問い合わせ先

信越化学工業株式会社 新規製品部
電話：03-3246-5345
FAX：03-3246-5724